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高密度等離子體化學氣相沉積系統

簡要描述:Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統。

  • 產品型號:Orion Proxima
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-06-05
  • 訪  問  量: 605

詳細介紹

1. 產品概述

Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統

2. 設備用途/原理

Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統填孔能力以及高沉積速率溫度場和 ICP 電磁場設計保證了低溫高致密的膜質表現優化機臺結構,縮小占地面積友好的人機交互和安全性設計保障系統穩定、安全、高效

3. 設備特點

晶圓尺寸 12 英寸適用材料氧化硅適用工藝淺溝槽隔離、金屬間介質層、鈍化層適用域 新興應用、集成電路。等離子體化學氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。按產生等離子體的方法,分為射頻等離子體、直流等離子體和微波等離子體CVD等。

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